大変お待たせいたしました...
メニュー
閉じる
私たちのアプローチ
製品
独自処方・技術
お問合せ
Ask
NAOS
メニュー
ホーム
独自処方・技術
براءة اختراع Photoreverse
براءة اختراع Photoreverse
يمكن أن يتسبب التعرض المفرط للإشعاع الشمسي في تكوين بقع داكنة.
ويعمل هذا المركب الحاصل على براءة اختراع على مستويات خلوية مختلفة لتنظيم عملية التصبغ على الرغم من التعرض لأشعة الشمس.