大変お待たせいたしました...
メニュー
閉じる
私たちのアプローチ
製品
独自処方・技術
お問合せ
Ask
NAOS
メニュー
ホーム
独自処方・技術
Patent Photoreverse
Patent Photoreverse
Nadmerná slnečná expozícia vedie k tvorbe tmavých škvŕn.
Táto technológia reguluje pigmentačné mechanizmy a reguluje pigmentáciu napriek slnečnej expozícii.
Táto technológia reguluje pigmentačný proces a eliminuje vznik tmavých škvŕn.