Photoreverse Patenti

Güneşe aşırı maruz kalmak, cilt lekelerinin ortaya çıkmasına neden olabilir. Bu patentli teknoloji, güneşe maruz kalınmasına rağmen pigmentasyon sürecinin düzenlenmesine yardımcı olmak için farklı hücresel seviyelerde etki gösterir